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產(chǎn)品中心材料樣品處理等離子清洗機(jī)KT等離子清洗機(jī)表面處理設(shè)備
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等離子清洗機(jī)表面處理設(shè)備內(nèi)置不高純石英倉(cāng)體，容積為2升，結(jié)構(gòu)為上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉(cāng)門(mén)有觀察窗，可直觀物體的處理過(guò)程，其射頻電源與控制都組裝在一個(gè)機(jī)箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時(shí)與大型清洗機(jī)相比較，從檢測(cè)功能與控制功能的設(shè)置上均可一個(gè)面板上操作，特別適用科學(xué)實(shí)驗(yàn)樣品清洗 和教學(xué)
| 品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
KT-S2DQX型等離子清洗機(jī)表面處理設(shè)備屬于13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗(yàn)等。
該等離子清洗機(jī)表面處理設(shè)備內(nèi)置不高純石英倉(cāng)體，容積為2升，結(jié)構(gòu)為上的通用結(jié)構(gòu)。采用了新型的外觀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和固態(tài)電源技術(shù)，使其有效容積增大，不同真空氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉(cāng)門(mén)有觀察窗，可直觀物體的處理過(guò)程，其射頻電源與控制都組裝在一個(gè)機(jī)箱內(nèi)，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時(shí)與大型清洗機(jī)相比較，從檢測(cè)功能與控制功能的設(shè)置上均可一個(gè)面板上操作，特別適用科學(xué)實(shí)驗(yàn)樣品清洗 和教學(xué)
供電電源 | AC220V（AC110V可選) |
工作電流 | 整機(jī)工作電流不大于3.5A(不含真空泵) |
射頻電源功率 | 150W |
射頻頻率 | 13.56MHz |
頻率偏移量 | ＜0.2MHz |
特性阻抗 | 50歐姆，手動(dòng)匹配 |
耦合方式 | 感應(yīng)耦合式（線圈耦合） |
真空度 | ≤100Pa |
腔體材質(zhì) | 高純石英 |
腔體容積 | 2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM) |
觀察窗內(nèi)徑 | Φ70 |
氣體流量 | 10—600ml/min（其他量程可選） |
過(guò)程控制 | 過(guò)程手動(dòng)控制 |
清洗時(shí)間 | 手動(dòng)開(kāi)關(guān) |
開(kāi)蓋方式 | 鉸鏈側(cè)開(kāi)式法蘭 |
外形尺寸 | 400x380x360mm |
重量 | 23Kg |
真空室溫度 | 小于65°C |
冷卻方式 | 強(qiáng)制風(fēng)冷 |
標(biāo)配 | KF16波紋管1米，kf16卡箍2個(gè)，電源線一根，說(shuō)明書(shū)一本。 |
等離子清洗機(jī)具備有超清洗功能，并且在特定條件下還可根據(jù)需要改變用于某些材料表面的性能，如把等離子清洗機(jī)的等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。RFC-2C在超清洗過(guò)程中等離子清洗機(jī)的輝光放電不但能夠加強(qiáng)多數(shù)材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性，并可消毒和殺菌。RFC-2C等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
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